研究職・常圧CVD成膜装置の技術者
- デバイス開発エンジニア成膜装置
- 掲載日：2026年04月15日
求人AIによる要約
・当社は立命館大学から生まれた、新しい半導体材料の開発と知財戦略を主軸としたディープテックスタートアップ企業で、
次世代の半導体材料の研究・開発、および製造販売を行います。
・当社の主な事業は、次世代パワー半導体 r-GeO₂（ルチル型二酸化ゲルマニウム）のエピウエハ（基板）の研究開発、製造、および
販売です。「ルチル型二酸化ゲルマニウム（r-GeO2）」は、「超ワイドバンドギャップ（UWBG）半導体」とも呼ばれており、この新技術
は、エネルギーの損失を大幅に低減できるという大きな特長があります。
・当社は日々新しい技術の探求を行い、次世代の半導体技術をリードする製品を生み出すと共に、環境への配慮を重視し、
持続可能な社会の実現に向けた取り組みも行っています。
省エネルギー技術の導入や廃棄物削減など、環境負荷を最小限に抑える努力を続けています。
・PATENTIX株式会社は、技術力と社会的責任を両立させる企業として、未来を見据えた事行展開をおこなっています。
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OUTLINE
デバイス開発エンジニア
成膜装置
【研究職として常圧CVD成膜装置の開発をお任せします】
■業務内容 ＜変更の範囲：会社の定める業務＞
ルチル型二酸化ゲルマニウムの成膜に使用する成膜装置の開発及び成膜装置を用いた薄膜作製を行っていただきます。
成膜装置の原理的な実証は確認済みですが、基板の大型化対応や、量産に使える装置とするために、
既存装置の改良の他に、新規装置の設計・立上げ・運用方法の策定、などを行う必要があります
主な業務は、
・最適な成膜条件の探索
・ 成膜装置の方式の検討、数値流体計算等による事前検証など
・CADを用いた装置設計。部材の調達。装置組立。装置の立上げ。運用方針の策定。
・各種分析装置を用いた作製した薄膜の分析の実施。
などを想定しています
なお、当社ではCADや流体シミュレーションソフトとして、主にオープンソースソフトウェアを使用しており、
使用経験のない場合は採用後に習得して頂きます
『JR線「南草津」駅（駅から近江鉄道バス「立命館大学行き」で約10分』
夏季休暇、年末年始休暇、GW休暇有
通勤手当支給(上限5万円)
駐車場有
COMPANY
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