デバイス開発エンジニア

プロセス技術研究者

成膜装置

当社のコア事業である真空薄膜形成装置(材料の表面に非常に薄い膜を作るための機械)の最先端技術を結集させ、IADやRASに続くシンボル商品やサービスを一緒に創り出していただける研究開発部員を募集します。【業務詳細】プラズマを生成、制御、利用するための重要な部品や装置の研究開発。基礎開発から商品開発まで一貫してご担当頂きます。設計は専門メンバーが担当するため、主な業務は調査、アイデア出し、技術開発、商品仕様決めです。開発スパンは約1年。エンジニア自らお客様のところへ出向き、技術者の視点からニーズを聞き取ってきて、それを部門内で共有し、商品開発に落とし込めるのが当社の特徴です。

［配属先情報］
【基盤技術開発グループ：12名が在籍】5－6名でチームを形成し業務を遂行します。

【いずれか必須】■電気回路の知識(大学卒程度)■プラズマ生成技術に関する基本理解■プラズマ生成技術の経験があること　※異業界出身者も活躍中！ご経験・素養に応じて担当業務を決定致します。
【当社について】真空を用いた薄膜形成技術により、光学、ディスプレイ、電子部品など様々な分野で、お客様と共に「未知の技術をつくりたい」という意気を持って、ものづくりと向き合っております。
【やりがい】顧客のニーズをもとに商品を0から完成させるため、世の中にそれらが普及され、実際にそれらが利用されているシーンを見た時の達成感は是非、味わって頂きたいです。

本社（神奈川県横浜市西区）
［転勤］無

［想定年収］600万円～

［賃金形態］月給制

［月給］300000円～

［所定労働時間］8時間0分　［休憩］60分
［フレックスタイム制］有［コアタイム］有　11:00～15:00

完全週休2日制


［年間休日］122日　内訳：土日祝　その他（12/30-1/4　年末年始：昨年度6日）

［有給休暇］入社半年経過後15日～

［退職金］有［社会保険］健保　厚生年金　雇用　労災
［寮社宅］無