GE11_半導体材料 – フォトレジスト材料開発・材料評価技術開発
- ウェハ材料化学材料材料開発エンジニア
- 神奈川県 静岡県
- 年収500万~700万円年収700万~1000万円年収1000万円以上
- 提供元:富士フィルム株式会社
- 掲載日:2026年01月27日
求人AIによる要約
富士フイルムでは、急速に拡大する半導体市場に対応するため、リソグラフィー関連材料の開発者を募集しています。デバイスの高度化に伴い、EUVやArFレジストの処方開発や評価技術の向上に貢献できるチャンスです。技術重視の組織で、国際的な顧客やパートナーと連携し、グローバルなキャリア形成を実現できます。富士フイルムの多様な技術基盤を活かし、長期的な成長を目指せる環境が整っています。
【おすすめポイント】
・リソグラフィー材料の最前線での開発に関与
・グローバルなプロジェクトでスキルアップの機会
・富士フイルムの安定した経営基盤でキャリア形成が可能
※提供元サイトへリンクします
OUTLINE
ウェハ材料
化学材料
材料開発エンジニア
富士フイルムの半導体材料事業は、長年培ってきた銀塩写真感光材料技術に立脚したリソグラフィー技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在では、リソグラフィー分野から半導体材料/電子材料全般への研究拡大を図っています。
当組織では、独自性と顧客価値の高い先端リソグラフィー関連材料を開発することにより、社会課題を解決し、半導体業界の成長に貢献していきます。
【募集背景】
現在当社は、急速に拡大する半導体市場において、複雑化・高度化する半導体デバイスのニーズに応えるため、材料設計から評価・分析まで幅広い知識・実践経験がある開発者を募集しています。
【担当職務】
半導体製造用リソグラフィー関連材料の開発を担っていただきます。
<具体的には>
(1)リソグラフィー関連材料処方開発者
EUVやArFレジストに代表されるリソグラフィー関連材料(現像液等を含む)の処方開発、
および商品化
(2)リソグラフィー関連材料評価技術者
EUVやArFレジストに代表されるリソグラフィー関連材料(現像液等を含む)の評価技術の
開発
【仕事の魅力】
・富士フイルムの技術重視の組織風土の中で、関連部門(素材技術、解析技術、DX関連技
術、プロセス技術、製造技術)の支援を得ながら、先端半導体材料開発に携われます。
・国内外の顧客(半導体デバイスメーカー)向けに、パートナー(製造装置/原料メーカー等)
や当社海外拠点と協業する中で、グローバルな活躍とスキルアップを図れます。
・富士フイルムの多様な事業領域で培った技術基盤と安定した経営基盤のもと多角的かつ
長期的なキャリア形成が可能です。
<富士フイルムについては以下をご参照ください>
■富士フイルムグループ紹介動画(※音声が再生されます)
https://youtu.be/TuLkE-elaL0?si
■富士フイルム グループパーパス(※音声が再生されます)
https://youtu.be/EEtolzWAlKE
■富士フイルムグループ紹介
https://holdings.fujifilm.com/ja/about
■富士フイルムグループの価値創造
https://ir.fujifilm.com/ja/investors/value.html
<関連技術・事業については以下をご参照ください>
■半導体材料について
https://www.fujifilm.com/jp/ja/business/semiconductor-materials?category=3796
・大卒以上
(1)リソグラフィー関連材料処方開発者
・半導体関連材料もしくは高機能電子材料の開発経験
・有機化学に関する幅広い知識を保有し、フォトレジスト等のリソグラフィー関連材料の
開発に興味がある方
(2)リソグラフィー関連材料評価技術者
・半導体デバイス製造および装置製造における、フォトリソグラフィ工程の各種プロセス
開発、および実験の経験
・半導体製造における欠陥検査技術、もしくは歩留り改善のための解析技術
神奈川県 開成町
※勤務地について条件・備考がありますので、選考時にお伝えさせていただきます。
正社員
契約期間:定めなし
試用期間:6か月
■時間外労働
あり
■従事すべき業務の変更の範囲
当社業務全般
■就業場所の変更の範囲
本社及び全国の拠点
■給与(年収)
メンバー : 500万円 ~ 1000万円
マネージャー:1000万円 ~ 1300万円
■受動喫煙防止措置
敷地内禁煙
■募集企業
富士フイルム株式会社
※その他待遇/制度については以下をご覧ください。
https://careers.fujifilm.com/experienced/recruit/
COMPANY
※提供元サイトへリンクします
当サイトの情報は、情報提供元から自動取得した内容を掲載しており、一部情報が最新でない可能性があります。最新の内容については、直接情報提供元でご確認ください。