デバイス開発エンジニア

成膜装置

材料開発エンジニア

【京都／木津川市】研究開発※プラズマ発生装置等／年休126日／ほぼ定時退社／事業安定性◎

◎国や大手メーカーと取引ありで事業安定性！
◎年休126日！ほぼ定時退社でワークライフバランス整う！
◎OJTでしっかりと技術習得可能！

■業務内容：
大手企業からの依頼を中心に研究開発・技術コンサルを担当いただきます。多くの大手企業様の製品研究開発に携われる非常にやりがいあるお仕事です。
《業務詳細》
・大手メーカーより依頼を受け、開発受託と技術コンサルティングを行います。その過程でデータを取る際に必要となるプロトタイプ製品の開発、設計、製作・評価なども行います。
・基礎的な検討から、部品の図面を作成して協力会社への発注、検査など、幅広く業務に携わって頂きます。※安定成長に向けた企業運営全般にも関与します。
《主な開発製品》
半導体製造装置向けの基幹部品
（プラズマ発生装置、イオンビーム発生装置など）

■組織構成：
2名（30代、40代）
加えて同志社大学、大学院の学生様などアルバイトの方もいらっしゃいます。

■入社後の流れ：
初めは評価作業のサポート（実験がメイン）から入っていただきます。ゆくゆくは上流工程をお任せしたいと考えています。

■教育制度：
入社後はOJTでしっかりと技術習得して頂きます。（開発、設計、製作、保守と幅広い知識習得が可能です。）

■当社の強み、業務の魅力：
単なる意見を言うだけのコンサルティングではなく実際の設計→構築作業→試験→調査結果のフィードバックを一貫して行うことで、大手企業の手の届かない部分をカバーしています。
一つの課題に対して最初から最後まで自身の責任で関わることができるので、大手にはないベンチャーならではのやりがいがあります。

■当社の特徴：
核融合プラズマ加熱装置用の大電流負イオン源技術を起源とする、技術開発型ベンチャー企業です。
近年のモノのインターネット化（IoT）による各種センサー素子や高周波回路素子の利用の広がりに伴い、圧電薄膜や磁性薄膜など、従来のシリコンプロセス装置では加工困難な材料に対応できる微細加工装置が求められています。このような新規の技術ニーズに応えるべく、酸素や各種の活性ガスが使用できる ECR（電子サイクロトロン共鳴）高密度プラズマ源およびECR大電流イオンビーム源の開発を進めています。

変更の範囲：会社の定める業務

＜最終学歴＞大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校、高等学校卒以上

＜応募資格/応募条件＞
＜ポストドクター（博士研究員）歓迎＞〈第二新卒歓迎！〉〈業界未経験歓迎！〉〈職種未経験歓迎！〉

■必須条件（下記いずれかにあてはまる方）
・電気工学／電子工学／機械／応用物理／物理工学の知識・スキルをお持ちの方
・プラズマやイオンビーム技術に関する研究開発業務を経験された方

＜勤務地詳細＞
事務所（けいはんなオープンイノベーションセンター）
住所：京都府木津川市木津川台９－６　 けいはんなオープンイノベーションセンター１０５
勤務地最寄駅：近鉄京都線／新祝園駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙
変更の範囲：会社の定める事業所

＜勤務地補足＞
近鉄京都線「新祝園」駅（または，JR学研都市線「祝園」駅）から奈良交通バス「公園東通り」下車．（15分）


＜転勤＞
当面なし

＜予定年収＞
384万円～492万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：256,000円～328,000円

＜月給＞
256,000円～328,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
■計算モデル：院卒，25～35歳
■経験・能力を考慮して調整
■給与改定：年1回（4月）
■賞与：年2回（7月、12月）※約3~4ヶ月／年

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

＜勤務時間＞
9:00～18:00 （所定労働時間：8時間0分）
休憩時間：60分（12:00～13:00）
時間外労働有無：有
＜その他就業時間補足＞
残業は多くて10時間程度です。ほぼ定時に帰宅することが可能です。

完全週休2日制（休日は土日祝日）
年間有給休暇10日～（下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります）
年間休日日数126日

土曜、日曜、祝日
夏季・年末年始休暇（一部計画年休）、慶弔休暇、有給休暇、その他会社が認めた休暇

通勤手当、家族手当、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、退職金制度

＜各手当・制度補足＞
通勤手当：上限30,000円／月
家族手当：5,000円／扶養1人当たり
社会保険：補足事項なし
退職金制度：支給条件は会社規定による

＜副業＞
可

＜教育制度・資格補助補足＞
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