エッチング装置

プロセス技術研究者

前工程プロセス開発

【山口】プロセスエンジニア（半導体エッチング装置）／日立G中核メーカー

■業務内容：
プロセスシステム製品本部：プロ設計部にて海外の大手半導体デバイスメーカー向けにエッチング装置のプロセス開発、デモ対応業務をご担当いただきます。微細化が限界に近づいてきた時代で、半導体製造プロセスにおけるエッチング工程の重要性が高まってきております。顧客が持つ課題に対して、顧客のニーズに合った解決策をタイムリーに提案することで、深い信頼関係を築いていくことをミッションとしています。

■業務詳細：
・顧客の要求性能に対する既存設備を用いたプロセス条件（レシピ）の最適化
・顧客との仕様打ち合わせ
・納入装置のプロセス改善、改良提案と検証
・新規開発する装置や機能を他部署と共同開発を担当していただきます。
担当顧客は米国・台湾・韓国のいずれかです。
【変更の範囲：会社の定める業務】

■仕事の魅力：
・日立製作所の研究所を始め日立グループ内の複数部署とプロジェクトチームを結成し、共同で先端技術の開発を行っています。プラズマを発生させる化学反応・温度制御や、特殊なガスの発掘など、何度も実験を重ね、試行錯誤しながら新しい技術を生み出しています。技術に情熱やこだわりを持ったメンバーと一丸となって取り組むことができます。
・世界中の先端技術が集結する環境で技術力や知識を身に付けることができます。求められるレベルは高いですが、技術者として更なる高みを目指すことができます。
・あくなき技術革新を追求する気概溢れたチームが一体となり課題解決をする醍醐味を味わうことができます。

■働き方：
プロセス条件（レシピ）の考案のため、実機テストの立ち合いが必須となる業務が多いことから、部署としては出社を推奨しています。チーム単位で開発を進めており、昼勤と夜勤をバランスよく配置することで、残業時間の低減を図っています。
※夜勤に関して
・主な勤務時間：17:00~翌日2:00
・頻度：ひと月あたり1~2週間ほど（シフトは週次で交代制）
・主な業務内容：昼勤時と同様、社内のデモ機を用いた実機テスト

■海外出張・駐在について：
・出張先：台湾、米国、韓国
・出張期間と頻度：1～3か月間の出張が年に1~2回程ございます
・出張先での主な業務：現地の海外法人での実機テスト
・駐在：早くて入社2～3年目に、海外駐在の可能性がございます。

変更の範囲：本文参照

＜最終学歴＞大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校、高等学校卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須要件※以下、いずれも必須
・化学、物理、電気（プラズマ）のいずれかの知見を活用した業務経験のある方
（学生時代に学ばれていた方も可）
・社内外の各関係者と円滑にコミュニケーションが取れる方

■歓迎条件：
・機械、装置メーカーにて顧客折衝をした経験がある方（職種は問わず）
・英語に抵抗のない方またはビジネス上での英語の使用経験がある方

＜最終学歴＞大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校、高等学校卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須要件※以下、いずれも必須
・化学、物理、電気（プラズマ）のいずれかの知見を活用した業務経験のある方
（学生時代に学ばれていた方も可）
・社内外の各関係者と円滑にコミュニケーションが取れる方

■歓迎条件：
・機械、装置メーカーにて顧客折衝をした経験がある方（職種は問わず）
・英語に抵抗のない方またはビジネス上での英語の使用経験がある方

＜勤務地詳細＞
笠戸事業所
住所：山口県下松市東豊井794
勤務地最寄駅：JR山陽本線／下松駅
受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり
変更の範囲：本文参照

＜勤務地補足＞
【変更の範囲：会社の定める事業所】

＜転勤＞
当面なし
補足事項なし

＜在宅勤務・リモートワーク＞
相談可（在宅）

＜オンライン面接＞
可

＜予定年収＞
450万円～880万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：255,000円～412,000円

＜月給＞
334,200円～412,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
■給与改定：年1回（6月）
■賞与：年2回（6月・12月）
※等級に応じて月給／固定残業代をご提示する場合あり

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

＜勤務時間＞
8:30～17:00（所定労働時間：7時間45分）（シフト制）
休憩時間：45分
時間外労働有無：有

＜勤務パターン＞
8:30～17:00
16:55～1:55
＜その他就業時間補足＞
勤務パターン（1）、（2）を1-2週間ずつ交代で実施。
※交代の周期については、月ごとの変動あり。