GE07_ナノインプリント材料開発の担当研究員
- ウェハ材料光電子デバイス材料開発エンジニア
- 神奈川県
- 年収500万~700万円年収700万~1000万円年収1000万円以上
- 提供元:富士フィルム株式会社
- 掲載日:2025年07月02日
求人AIによる要約
富士フイルムの半導体材料事業では、ナノインプリントリソグラフィー用の新規材料の開発者を募集しています。この技術は、微細パターンや複雑な形状を一度の転写で実現し、次世代のパターニング技術として注目されています。省電力・省資源技術としても期待されており、国内外の有力企業と協力し、最先端の開発に携わるチャンスがあります。半導体用の材料技術を基に、新しい光学デバイスの研究開発にも関与できる魅力的なポジションです。ぜひあなたの技術を次のレベルへと引き上げてください。
【おすすめポイント】
・最先端のナノインプリント材料開発に関与できる
・国内外の有力企業との協業による技術力向上
・新規デバイス開発の機会を提供する成長環境
※提供元サイトへリンクします
OUTLINE
ウェハ材料
光電子デバイス
材料開発エンジニア
富士フイルムの半導体材料事業は、長年培ってきた銀塩写真感光材料技術に立脚したパターニング技術を、半導体デバイスに応用するところから始まり、現在では、パターニングから半導体材料/電子材料全般への拡大を図っています。
本職務では、ナノインプリントリソグラフィーで使用される新規材料の開発および市場導入を担っていただきます。
【担当職務】
下記のナノインプリント材料開発職務のいずれか、もしくは両方ご担当いただきます。
<職務内容>
1.半導体デバイス製造用ナノインプリント材料の開発と市場導入
2.光学デバイス等の新規デバイス製造用ナノインプリント材料の研究開発
【仕事の魅力】
ナノインプリントリソグラフィーは微細パターンや複雑な3次元形状を1回の転写で作成できることから、次世代のパターニング技術として注目を集めており、最近は省電力・省資源などの低環境負荷技術としても期待されています。また、ナノインプリントリソグラフィーは日本国内の有力な関連企業が技術開発をリードしており、世界最先端の開発に携わることが可能です。
当社も半導体製造用のナノインプリント材料の技術リーダーとして業界に認知されており、今後さらに事業を拡大すべく、最先端のパターニング技術の開発をご担当いただける方を増員募集します。半導体用に培った材料技術を基盤とし、光学デバイス等の新規材料の開発にも活躍の場を広げるチャンスがあるポジションです。
<富士フイルムについては以下をご参照ください>
■富士フイルムグループ紹介動画(※音声が再生されます)
https://youtu.be/TuLkE-elaL0?si
■富士フイルム グループパーパス(※音声が再生されます)
https://youtu.be/EEtolzWAlKE
■富士フイルムグループ紹介
https://holdings.fujifilm.com/ja/about
■富士フイルムグループの価値創造
https://ir.fujifilm.com/ja/investors/value.html
・大卒院前期課程以上
・半導体材料やディスプレー材料等の高機能材料の開発経験を有する方
・オーナーシップ、コミュニケーション能力、迅速な行動力、的確な判断力を有する方
【歓迎(WANT)】
・ナノインプリント材料、またはナノインプリントプロセスに関する専門知識を有する方
・半導体リソグラフィー、紫外線硬化樹脂、機能性インクジェットインクに関する専門知
識を有する方
・海外顧客との打合せで概要把握や議論ができるレベルの英語力を有する方
正社員
契約期間:定めなし
試用期間:6か月
■時間外労働
あり
■従事すべき業務の変更の範囲
当社業務全般
■就業場所の変更の範囲
本社及び全国の拠点
■給与(年収)
メンバー : 500万円 ~ 1000万円
マネージャー:1000万円 ~ 1300万円
■受動喫煙防止措置
敷地内禁煙
■募集企業
富士フイルム株式会社
※その他待遇/制度については以下をご覧ください。
https://careers.fujifilm.com/experienced/recruit/
COMPANY
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