デバイス開発エンジニア

プロセス技術研究者

成膜装置

【静岡／裾野市】研究開発(半導体PVD)◇東証プライム／残業20h／年休125日◇

【世界レベルの真空技術力と裁量の幅が広い風土／創業72年の安定した財務基盤／平均勤続年数15年／車通勤可／長期休暇取得可】

■業務内容：
ULVACの主力製品である半導体向けスパッタリングプロセスおよび装置の研究開発をご担当いただきます。

【具体的には】
・課題解決のための原理究明・解決策をチームメンバー、先輩社員らと技術ディスカッションを行い導き出す。
・クリーンルーム内にある開発機を操作し、ウエハへ成膜処理・薄膜の分析評価・データまとめ・ディスカッションを行う。
・得られた成果を事業部門および海外グループ関係会社と共有、技術移管を行うとともに特許・技術レポートを作成する。
・必要に応じて顧客との技術打合せへ参加しプレゼンテーションやディスカッションを行う。

■中途採用比率：
2022年度（77％）、2021年度（100％）、2020年度（77％）

■当社の強み：
・『真空技術で産業と科学に貢献する』という企業理念のもと、真空技術を活用した製造装置を提供。
世界トップクラスのシェアを誇るLCD(液晶ディスプレイ)製造用スパッタリング装置をはじめ、エレクトロニクス・自動車・環境・IT・食品・先端医療等、様々な業界を最先端技術でリードしています。
・真空の応用範囲はスマホやタブレット等の情報通信機器や輸送機器、環境分野、医療技術分野に至るまで多岐にわたります。

当社の3つの強み『研究開発』『グローバルネットワーク』『CSソリューション』を駆使し、社会課題の解決に寄与する製品や技術を提供しています。また、得意とする薄膜技術をコアビジネスとし、性能的に差別化された商品の開発、業界に先駆けた技術開発による製品の開発を行うと同時に、グローバル化を推進しコストダウンや単純化、共通化、標準化を図ってまいります。

変更の範囲：会社の定める業務

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：
・大学学部生レベルの物理・化学の基礎知識
・運転免許証（通勤のために必要）

■歓迎条件：
・真空装置（スパッタリング）の取り扱い経験がある方
・半導体デバイスおよび製造工程に関する基礎知識のある方
・国際学会での発表、論文投稿経験がある方
・海外出張可能な方


＜必要資格＞
必要条件：普通自動車免許第一種

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：
・大学学部生レベルの物理・化学の基礎知識
・運転免許証（通勤のために必要）

■歓迎条件：
・真空装置（スパッタリング）の取り扱い経験がある方
・半導体デバイスおよび製造工程に関する基礎知識のある方
・国際学会での発表、論文投稿経験がある方
・海外出張可能な方


＜必要資格＞
必要条件：普通自動車免許第一種

＜勤務地詳細＞
富士裾野事業所
住所：静岡県裾野市須山1220-14
勤務地最寄駅：御殿場線／岩波駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙
変更の範囲：会社の定める事業所

＜勤務地補足＞
JR御殿場線「岩波駅」
車通勤可。無料駐車場あり

＜転勤＞
当面なし

＜在宅勤務・リモートワーク＞
相談可

＜オンライン面接＞
可

＜予定年収＞
450万円～800万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：260,000円～462,222円

＜月給＞
260,000円～462,222円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
※給与詳細は、経験・年齢・能力を考慮した上で決定します。
■昇給：年1回（7月）
■賞与：年2回（3月、9月）
■モデル年収：（残業平均20h/月の場合）
27歳580万円、30歳650万円、35歳790万円


賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

＜予定年収＞
450万円～800万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：260,000円～462,222円

＜月給＞
260,000円～462,222円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
※給与詳細は、経験・年齢・能力を考慮した上で決定します。
■昇給：年1回（7月）
■賞与：年2回（3月、9月）
■モデル年収：（残業平均20h/月の場合）
27歳580万円、30歳650万円、35歳790万円


賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。