化学材料

後工程プロセス開発

歩留まり改善エンジニア

富士フイルムの半導体材料事業は、長年培ってきたフォトレジストを代表としたパターニング技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在ではパターニングから半導体材料/電子材料全般への拡大を図っています。
　本職務では、半導体製造プロセス用洗浄液(特にCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリー)の薬液処方開発および市場導入、量産品の課題解決を担っていただきます。

【担当職務】
半導体製造プロセス用洗浄液事業において、薬液開発、国内および海外の幅広い顧客対応(顧客ニーズ把握～商品企画～顧客への導入～量産品立ち上げ)を担っていただきます。
＜職務内容＞
・薬液開発(※海外関係会社と協業、MI(マテリアルインフォマティクス)/LA(ラボラトリー
　オートメーション)活用)
・国内外の顧客、顧客候補とのコンタクトを通じた顧客ニーズのリサーチ
・顧客ニーズに対応した評価系探索・構築
・顧客への新製品導入活動
・量産品立ち上げ

【仕事の魅力】
　半導体製造プロセスにおいて洗浄工程は欠かせぬ工程であり、歩留まり向上のためのキープロセスとなります。前工程・後工程関わらず、半導体の微細化・市場の成長に伴って洗浄薬液の課題やニーズが増えており、今後も技術革新が期待されています。洗浄工程は直前の工程により洗浄対象が変化するため、顧客との議論・情報収集が重要であり、その情報に基づく、評価系構築～薬液開発～量産立ち上げ、という一連の研究開発プロセス全てに関わることができます。
　また、CMP(化学機械研磨)工程においては、研磨液開発チームとCMP後洗浄液開発チームがグローバルな共同開発体制を構築し、Total solutionとしてCMP関連材料(スラリー＋洗浄液)を開発しているため、日常的に海外との協業が行われており、アメリカ・台湾への海外駐在のチャンスもあります。近年は、MI(マテリアルインフォマティクス)・LA(ラボオートメーション)の活用も積極的に進めており、化学の知識に加え、統計学・計算化学・プログラミングのスキルを持つ方は、活躍の場が用意されています。


＜富士フイルムについては以下をご参照ください＞
■富士フイルム グループパーパス(※音声が再生されます)
https://youtu.be/EEtolzWAlKE
■富士フイルムグループ紹介
https://holdings.fujifilm.com/ja/about
■富士フイルムグループの価値創造
https://ir.fujifilm.com/ja/investors/value.html

【必須(MUST)】
・以下いずれかの経験を有する方
　①半導体分野におけるCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラ
　　リーに関する薬液開発経験
　②MIまたはLAを利用した高機能材料の開発経験
・オーナーシップ、コミュニケーション能力、迅速な行動力、的確な判断力を有する方

【歓迎(WANT)】
・半導体プロセス装置を使用した開発経験または知識を有する方
・顧客サポート対応、顧客との協業体制の構築、商品化/事業化の経験を有する方
・海外顧客との打合せで概要把握や議論ができるレベルの英語力を有する方
・MIやLAなどの知見・興味を有する方
・半導体設備の評価選定、仕様調整、導入経験を有する方
・特許出願業務の経験を有する方

神奈川県 開成町
※国内外の顧客先への出張あり
※希望者にはアメリカ・台湾への海外駐在の可能性あり

■雇用形態
正社員
契約期間：定めなし
試用期間：6か月

■時間外労働
あり

■従事すべき業務の変更の範囲
当社業務全般

■就業場所の変更の範囲
本社及び全国の拠点

■給与(年収)
メンバー　　： 500万円 ～ 1000万円
マネージャー：1000万円 ～ 1300万円

■受動喫煙防止措置
敷地内禁煙

■募集企業
富士フイルム株式会社


※その他待遇/制度については以下をご覧ください。
https://careers.fujifilm.com/experienced/recruit/