プロセス技術研究者

成膜装置

材料開発エンジニア

■当社の機械設計担当として、真空を使用した成膜装置（ALD）の設計業務をご担当いただきます。《働き方》長岡研究所がメインの開発拠点となるため、出張が多く発生します。※交通費の他出張手当がございますのでご安心ください。業務変更の範囲：当社業務全般

【必須】真空chamber・基板搬送設計・Plasma機構設計：真空機器/各種必要機材の設定経験
【歓迎】半導体および関連装置の設計開発経験
AI・材料・液相・気相のコーティング技術をコア技術として事業展開しています。事業については、電子部品事業、半導体事業、エネルギー事業の３本柱を進めています。今回、半導体事業において、電極形成という積層セラミックコンデンサ製造における前工程を弊社独自のALD技術を使い真空技術を応用して成膜を行う装置を開発、製品化して市場に投入するにあたり、こちらを担う専門の知識と経験を持った技術者を募集します。

東京本社（東京都文京区）
［転勤］無

［想定年収］480万円～600万円

［賃金形態］年俸制 ［分割回数］12回

09:00～18:00　［所定労働時間］8時間0分　［休憩］60分
［フレックスタイム制］無［コアタイム］無

完全週休2日制


［年間休日］118日　内訳：土日　その他（会社カレンダーによる）

［有給休暇］入社半年経過後10日～最高20日

［退職金］無［社会保険］健保　厚生年金　雇用　労災
［寮社宅］無

［その他制度］昇給：1月あたり 5,000円～10,000円（前年度実績）、定年60歳(再雇用制度65歳まで)