ASIC/SoC設計

CAD/EDAエンジニア

前工程プロセス開発

マスク設計エンジニア ◆産官学×IBMと提携／世界最先端の2nm量産化へ◆経験者歓迎

【業務内容】
先端半導体のマスク設計エンジニアとして、チップ上でより均一なパターン密度を作成するために使用されるダミー形状の仕様の作成とコーディング、及びFillセル設計をお任せします。その他、マスク作成に使用されるPDKに関する開発、コーデイング業務も発生します。
（業務の変更の範囲：会社の定める業務）

【使用ツール例】
ICV, Calibre, Virtuoso, Mask Compose, ICVWB, Design Review, Hot Scope等

【量産開始までの流れ】
米IBM社と戦略的パートナーシップを締結しており、現在多くの技術者がIBM社にて2ナノ世代の要素技術獲得を進めています。並行してEUV露光機をはじめとして最先端の搬送システムや生産管理システムの導入も進めています。現在はパイロットラインの初期設計を進めており、2025年にはパイロットライン稼働、2027年には量産開始を目指しています。

【Rapidusについて】
■日本の半導体を再び世界へ
半導体は「産業のコメ」ともいわれる、今やあらゆる技術の開発、進化に欠かせないものとなっています。かつては世界でも最先端の半導体製造国であった日本ですが、現在は海外の半導体やファウンドリが台頭し、日の丸半導体は劣勢にあります。そんな中で最先端の2ナノ半導体及びさらにその先の次世代半導体の国内量産を目指し、設立されたのが同社です。
■産官学連携について
大手企業8社から総額73億円の出資を受け、「ポスト5G基金事業」による次世代半導体の研究開発プロジェクトの委託先として新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）から開発事業費700億円を受けています。また、技術研究組合最先端半導体技術センター（LSTC）と連携して2020年代後半に2nm世代の最先端ロジック半導体の短TATによる量産実現を目指しています。

変更の範囲：会社の定める業務

＜最終学歴＞大学院、大学、高等専門学校卒以上

＜応募資格/応募条件＞
【必須要件】以下いずれかのご経験をお持ちの方
・半導体プロセスにおける前工程（特にマスク～パターン形成まで）の業務経験
・半導体におけるレイアウト設計のご経験
・PDKの技術知見をお持ちの方

＜勤務地詳細1＞
本社
住所：東京都千代田区麹町4-1 麹町ダイヤモンドビル 11階
勤務地最寄駅：東京メトロ有楽町線／麹町駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙
＜勤務地詳細2＞
IIM（千歳工場）
住所：北海道千歳市
受動喫煙対策：屋内全面禁煙
変更の範囲：会社の定める事業所

＜勤務地補足＞
勤務地の変更の範囲：会社の定める事業所

＜転勤＞
当面なし

＜オンライン面接＞
可

＜労働時間区分＞
フレックスタイム制（フルフレックス）
休憩時間：60分
時間外労働有無：有

＜標準的な勤務時間帯＞
9:00～17:30