プロセス技術研究者

前工程プロセス開発

成膜装置

神奈川・武蔵小杉■半導体製品の技術戦略の立案※20年上期決算過去最高・グローバルニッチトップ選出

【フォトレジストで世界トップクラスのシェアを持つグローバルメーカー／グローバルニッチトップ企業100に選出／平均勤続年数20.6年・平均年収814万円と高水準】

■業務内容
・電子デバイスや半導体製造業界の市場調査（業界経験を生かして技術的な情報収集も行って頂きます）
・新製品および新技術の仮設検証
※これまでの知識や経験を活用し、仮説を検証し、東京応化が成功するためのシナリオを描く業務を期待しております。
※実際にプロジェクトの運営に携わり、プロジェクトをコントロールする役割も担って頂く可能性がございます。
■採用背景：
◎ストラテジックアライアンス部において、電子デバイス・半導体製造分野において、同社が有している技術を生かしたソリューション作り出すための活動を強化していきたいと考えています。
◎例えば化学増幅型フォトレジストの脅威となる技術や、業界全体の動きをできるだけ早い段階で予測し何をしなければいけないか、フォトレジストや付属薬品以外の事業化展開として何ができるか、といった視点で検討頂きます。
■当社の魅力：
【急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップクラスのシェア】今後情報社会が進む中、5Ｇやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。当社は、長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップシェアを築いています。
【大手優良化学メーカー／社員定着率・働き方◎】設立1940年・80年の歴史がある大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数20.6年です。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。

変更の範囲：会社の定める業務

＜最終学歴＞大学院、大学、高等専門学校卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■応募条件：※以下いずれかに該当する方
・半導体製造(前工程)、または関連装置メーカー等に勤務経験があり、技術内容、課題や今後の方向性等を把握している方
・成膜分野、ドライエッチングの工程、最先端リソグラフィで研究開発に携わっていた方
・半導体製造(後工程)、または関連装置メーカー等に勤務経験があり、深く技術内容、課題や今後の方向性等を把握している方
・異種材料接合・積層技術、部材開発に造詣の深い方


＜語学補足＞
TOEIC600点以上、もしくは海外での情報収集に支障ない英語、その他言語の語学力

＜勤務地詳細＞
本社
住所：神奈川県川崎市中原区中丸子150
勤務地最寄駅：東急東横線・目黒線／武蔵小杉駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙
変更の範囲：会社の定める事業所

＜転勤＞
当面なし

＜オンライン面接＞
可

給与
＜予定年収＞
500万円～800万円

＜賃金形態＞
月給制
特記事項なし

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：300,000円～450,000円

＜月給＞
300,000円～450,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
※経験・能力に応じ同社規定により優遇します。残業代は含んでおりません。
賞与：年2回（6月、12月）
給与改定：年1回（4月）
諸手当：別途該当項目欄に記載

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

＜労働時間区分＞
フレックスタイム制
コアタイム：10:00～15:00
休憩時間：60分
時間外労働有無：有

＜標準的な勤務時間帯＞
8:45～17:30