光電子デバイス

計測・解析エンジニア

露光装置

【横浜】光学設計（電子ビームマスク描画装置）～第二新卒歓迎／世界シェア90％超メーカー～/主任

■役割：
能力や適性、ご希望に応じて主任をお任せする可能性がございます。
実務に加えて上位職の実質的な補佐、チームメンバーの統率、後進の育成、グループ目標に基づいた戦略策定を担っていただきます。

■業務内容：
次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務をお任せいたします。
マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する業務となります。広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、新規光学設計でのご活躍を期待しております。

■組織構成：
30名（電子光学設計担当、電子鏡筒開発担当など）
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
※半導体業界未経験の社員も在籍しております。

■採用背景：
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる高性能化に向け、詳細な光学設計検討が必要となります。
描画装置の心臓ともいえる光学設計者層を厚くする目的の人材募集です。

■電子ビームマスク描画装置：
電子ビームによる描画制御技術をコア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の高度な要素技術を統合した装置です。
多岐にわたる技術を結集したシステム装置であり、最先端技術を融合した複合技術の集大成であるといえます。
【高速・高精度制御技術】
電子源から発生させた電子線を用いてフォトマスク上に回路パターンを形成します。
複雑な回路パターンを形成するために、電子線のスポットの位置を正確に位置決めします。この時、フォトマスク上ではナノメートルオーダーの位置精度が要求されます。
【超精密機械制御技術】
平面内を移動可能なステージ上にフォトマスクが置かれ、連続的に移動させながら回路パターンを描画します。ステージはレーザ干渉計という精密なセンサーからの位置情報を用いて、フィードバック制御されます。

変更の範囲：会社の定める業務

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：以下いずれかのご経験
・学生時代に力学、電磁気学、数学の知見を用いた研究経験や、業務経験をお持ちの方
・光学設計の経験をお持ちの方

■歓迎条件：
・電子顕微鏡、半導体製造装置等の、荷電粒子ビームの軌道計算や光学設計などに従事した経験のある方
・荷電粒子ビーム光学シミュレーター、電界や磁界のシミュレーターなどの利用経験のある方。
・電子顕微鏡等を手動で調整した経験のある方
・技術文書、論文などの英語（主に読解）に抵抗が少ない方方

＜語学補足＞
歓迎：英語での技術的なコミュニケーションが可能な方

＜勤務地詳細＞
本社
住所：神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
勤務地最寄駅：JR京浜東北根岸線／新杉田駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙
変更の範囲：会社の定める事業所（リモートワーク含む）

＜転勤＞
無

＜在宅勤務・リモートワーク＞
相談可（在宅）

＜オンライン面接＞
可

給与
＜予定年収＞
670万円～940万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：370,000円～550,000円

＜月給＞
370,000円～550,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
※経験、前職の給与を考慮の上、当社規定により決定します。
■昇給：年1回（4月）
■賞与：年2回／7月、12月（直近年度実績6.15ヶ月）

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

＜労働時間区分＞
フレックスタイム制（フルフレックス）
休憩時間：60分（12:00～13:00）
時間外労働有無：有

＜標準的な勤務時間帯＞
8:45～17:30
＜その他就業時間補足＞
■時間外労働：月平均25時間■現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度を導入