前工程プロセス開発

成膜装置

計測・解析エンジニア

イオン注入装置オペレーター【半導体】

■職務内容：
イオン注入装置を使用し、ウェハーに対して半導体の製造工程の一部であるイオン注入を行って頂きます。装置オペレーションの他、
装置メンテナンス業務や、一部分析業務(TEM/FIB-SEM等)も担って頂きます。
■イオン注入とは：イオン注入は、イオン化した物質を固体に注入することによって、その固体の特性を変化させる加工方法です。半導体製造における前工程では、イオン注入を用いることによって、ウェハーに適度な不純物を導入することができ、半導体デバイス特性を向上させるために必要不可欠な工程になります。
■配属部署：
配属部署には3名のオペレーターと3名の装置技術者がいます
オペレーター40代と50代の社員で構成されており、入社後は50代のベテランの方につきっきりで教わりながら仕事を進めていくこととなります。また、同社には工学博士号を取得している技術者が多数在籍しているため、作業内容や、技術に関しての知識を学べる環境です。
■社長のお人柄
営業職を担当されていた方で、仕事に対しても強い思い入れのある方です。面接においてもお一人おひとりに対して、どういったことが会社でしたいのかなど個人の意向を聞くなど、丁寧に対応されます。二次面接時の会社見学にも立ち会われるほど、採用に関して強い思い入れをお持ちです。
■就業環境：
5台のイオン注入装置があり、機能によって稼働率が異なります。稼働率が高い装置であれば、複数名で対応して頂くことになりますが、基本的には一人一台を担当しています。稼働率が高い装置にしか対応ができないケースはフル稼働で休日出勤もございます。
■基本的な業務の流れ：
10時頃にサンプルが郵送で届き、16時～18時に返送すると、即日対応ができる作業工程と作業量になっています。基本的に何百工程とある半導体製造における一部分の工程を担っているため、納期厳守は重要になります。大型の受注の場合は納期が2～3日になります。

＜最終学歴＞大学院、大学、専修・各種学校、高等専門学校卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：下記いずれかを満たす方
・半導体製造装置で作業を行った経験のある方
・イオン注入装置に携わった経験のある方
・SEMやTEM・FIB等の分析装置を使用した経験のある方

＜勤務地詳細＞
本社
住所：大阪府枚方市津田山手2-8-1津田サイエンスヒルズ
勤務地最寄駅：JR学研都市線／津田駅
受動喫煙対策：敷地内全面禁煙

＜勤務地補足＞
JR津田駅　　　京阪バス　5分程度JR河内磐船駅　京阪バス15分程度

＜転勤＞
当面なし
特記事項なし

給与
＜予定年収＞
280万円～450万円

＜賃金形態＞
月給制
特記事項なし

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：199,000円～300,000円

＜月給＞
199,000円～300,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
残業手当含んだ金額になります。
業績により期末に成果給の支給があります。


記載金額は選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含みます。

＜勤務時間＞
8:45～17:15（所定労働時間：7時間45分）
休憩時間：45分
時間外労働有無：無
＜その他就業時間補足＞
残業時間は月平均20時間程度になります。受注状況によっては休日出勤もございます。