プロセス技術研究者

成膜装置

材料開発エンジニア

【多摩市】機械（物理シミュレーション）技術者◆グローバル半導体製造装置メーカー

【半導体の成膜時に必要不可欠な装置の開発（エピタキシャル装置で世界シェアトップクラス）／プラズマCVD装置は日本が開発の中心】

■業務内容：
・電磁気学、化学、流体力学のバックグラウンドを持つ市販のソフトウェアを用いて、様々なエンジニアリングやプロセスの問題に対して物理シミュレーションを実施する
・サマリーレポートを作成し、関連部署の同僚や顧客にタイムリーに結果を提示する
・エンジニアリングやプロセスのメンバーと協力し、様々な問題に対する解決策や提案を提供することで、製品やプロセスの開発をサポートする

■日本法人の立ち位置：
外資系企業ながら開発拠点が日本にあり、CVD装置は研究開発から製造・部品調達、カスタマイズまで全て日本で行っています。製品毎に主要開発拠点があり、日本はCVD装置の開発拠点という位置づけになります。また、近年話題のハフニウム使用のゲート絶縁膜分野では先駆的な存在となります。

■当社の強み・魅力：
◇売上高に左右されずにR&Dを行える環境：流動比率500％、自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤を誇ります。それ故、短期的な売上ではなく長期的な観点でR&Dが可能です。DRAM要因で売上減少もR&D費が増加しています。
◇外資企業でありながら、非常に日系に近い雰囲気があります。グローバル拠点間の独立性が高いので、外資ならではの本国からの執拗な干渉も少ないです。技術職の方を始めとして従業員一人ひとりの位置付けが、製品開発、製造の関わりの中でしっかりと意識できる環境なので、従業員の仕事に対するモチベーションが高いのが魅力です。これは離職率の低さ（年5～6％）にも現れています。

＜最終学歴＞大学院卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須：
・工学または物理学の修士号以上
・COMSOL、ANSYS（Fluent）、Gaussianなどの物理シミュレーションソフトウェアを用いた優れたシミュレーション・モデリング能力
※化学、物理、数学、工学の十分な基礎知識、電磁気学、反応化学、流体力学、熱伝導の分野
・英語：ビジネスレベル以上

■歓迎：
・CVD、ALD、PECVD、PEALDなどの蒸着製品の使用経験、プラズマの知識
・データサイエンス関連のプログラミングスキル（Pythonなど）
・日本語力


＜語学力＞
必要条件：英語中級

＜勤務地詳細＞
本社
住所：東京都多摩市永山6-23-1
勤務地最寄駅：小田急線・京王線／永山駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙

＜転勤＞
当面なし

＜在宅勤務・リモートワーク＞
相談可

＜オンライン面接＞
可

＜予定年収＞
700万円～800万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：375,000円～440,000円

＜月給＞
375,000円～440,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
※残業代別途支給
※給与詳細、残業代はグレードにより決定。
※上記年収は、基本給600万円～700万円＋ボーナス10％＋変動手当を含む。
■賞与：4ヶ月（7月、12月支給）※グレードによる
■業績賞与：基本年収の10％想定　※グレードによる
■残業代：時給1.25倍（平均１５－２０ｈ／月）

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

＜勤務時間＞
9:00～17:30 （所定労働時間：7時間30分）
休憩時間：60分
時間外労働有無：有