前工程プロセス開発

製品評価エンジニア

設備エンジニア

【横浜】ビームブランキングシステム開発(主任候補)～世界シェア90％超～

【マスク描画装置世界シェア90％超／海外売上高比率80％／残業時間月平均25時間／年休125日】

■業務内容：
マルチビームマスク描画装置用ビームブランキングシステムの設計・製造・運用方法の開発製造を行なっていただきます。

具体的には、下記の業務を担当していただきます。
１．LSI-CHIP製作技術
・LSI設計、設計検証、性能評価、品質検査、工程管理立上・・・CHIP（1）
２．MEMS付きCHIP（1）製作技術
・MEMS簡易設計、設計検証、性能評価、品質検査、工程管理立上・・・CHIP（2）
３．装置組込技術
・CHIP（2）を装置組込に必要な構成形態に製造開発、品質検査、工程管理立上・・・CHIP（3）
・CHIP（3）を実装する回路基板の設計、製作、実装後の総合性能評価

■業務の魅力：
電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。
フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。次世代装置としては、生産性、精度、、メンテナンス性、などあらゆる面での性能向上が求められます。その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。
周辺には、経験豊富なベテラン開発者も多くおり、アドバイス適切なアドバイスを受けることが可能で、自らの開発、研究者者としての成長が期待できる職場です。

■高い技術力とエンジニア文化：
経済産業省よりグローバルニッチトップ企業100に選出されております。
技術開発に対する先行投資に力を入れており、研究開発費率22.6％を誇ります。（製造業界平均値4.81%/同社調べ）
開発を進める中で、さまざまな課題は出てくるはずですが、当社にはチャレンジできる環境があります。

■業界での立ち位置：
半導体製造装置市場は、最先端技術を必要とするため開発難易度が高く、他社の参入が非常に困難な領域です。
同社は半導体製造装置メーカーの中でも、フォトマスク工程と前工程で使用される装置を製造しています。
フォトマスク工程で使用される電子ビームマスク描画装置及びマスク検査装置においては、
世界トップレベルの描画精度を誇り、ほぼ100％の世界市場シェアを獲得しています。

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：
下記いずれかに該当される方
・MEMS、LSI等のカスタムデバイスの設計経験がある方
・組み込みシステム開発の経験がある方

＜勤務地詳細＞
本社
住所：神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
勤務地最寄駅：JR京浜東北根岸線／新杉田駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙

＜転勤＞
無
補足事項なし

＜在宅勤務・リモートワーク＞
相談可

＜オンライン面接＞
可

＜予定年収＞
670万円～940万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：370,000円～550,000円

＜月給＞
370,000円～550,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
※経験、前職の給与を考慮の上、当社規定により決定します。
■昇給：年1回4月
■賞与：年2回／7月、12月（直近年度実績 6.15ヶ月）

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

＜労働時間区分＞
フレックスタイム制（フルフレックス）
休憩時間：60分
時間外労働有無：有

＜標準的な勤務時間帯＞
8:45～17:30
＜その他就業時間補足＞
・平均残業時間：25時間/月