デバイス開発エンジニア

前工程プロセス開発

露光装置

【横浜】次世代描画装置システム開発(管理職候補)～世界シェア90％超～

【マスク描画装置世界シェア90％超／海外売上高比率80％／残業時間月平均25時間／年休125日】

■業務内容：
電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして他部署と協業しながら幅広く活躍いただきます。
＜業務例＞
・現行の描画装置におけるシステム・要素開発
・次世代描画装置のシステム・要素開発（次世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通し、装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成）
海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。

■募集背景：
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。

■業務の魅力：
電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。
フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。次世代装置としては、生産性、精度、、メンテナンス性、などあらゆる面での性能向上が求められます。
周辺には、経験豊富なベテラン開発者も多くおり、アドバイス適切なアドバイスを受けることが可能で、自らの開発、研究者者としての成長が期待できる職場です。

■高い技術力とエンジニア文化：
経済産業省よりグローバルニッチトップ企業100に選出されております。
技術開発に対する先行投資に力を入れており、研究開発費率22.6％を誇ります。（製造業界平均値4.81%/同社調べ）
開発を進める中で、さまざまな課題や克服しなければならない壁は出てくるはずですが、当社にはチャレンジできる環境があります。

＜最終学歴＞大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校、高等学校卒以上

＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：
・精密機器装置の製造プロセスに関する知見をお持ちの方

＜勤務地詳細＞
本社
住所：神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
勤務地最寄駅：JR京浜東北根岸線／新杉田駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙

＜転勤＞
無
補足事項なし

＜在宅勤務・リモートワーク＞
相談可

＜オンライン面接＞
可

＜予定年収＞
1,070万円～1,500万円

＜賃金形態＞
月給制

＜賃金内訳＞
月額（基本給）：570,000円～760,000円

＜月給＞
570,000円～760,000円

＜昇給有無＞
有

＜残業手当＞
有

＜給与補足＞
※経験、前職の給与を考慮の上、当社規定により決定します。
■昇給：年1回4月
■賞与：年2回／7月、12月（直近年度実績 6.15ヶ月）

賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

＜労働時間区分＞
フレックスタイム制（フルフレックス）
休憩時間：60分
時間外労働有無：有

＜標準的な勤務時間帯＞
8:45～17:30
＜その他就業時間補足＞
・平均残業時間：25時間/月