【山梨】プロセス技術開発(wet、Dry、Litho、成膜)※リモート・フレックス有/シェア世界3位
- プロセス技術研究者前工程プロセス開発成膜装置
- 山梨県
- 年収500万~700万円年収700万~1000万円年収1000万円以上
- 提供元:doda
- 掲載日:2024年12月18日
求人AIによる要約
半導体製造装置のリーディングカンパニーで、プロセス技術開発のポジションを募集しています。主にwet、Dry、Litho、成膜の各プロセス開発を担当し、実験やデータ分析、共同研究を通じて新技術の探索に貢献します。フレックス勤務やリモートワークが可能で、残業も20-30時間程度。特許取得や学会発表の機会もあり、キャリアアップが期待できる環境です。業界トップクラスの企業で、質の高いサンプル提供を通じて自身の技術をアピールするチャンスがあります。
【おすすめポイント】
・フレックス勤務・リモートワークが可能
・新技術探索や特許取得の機会
・業界トップクラスの企業でのキャリアアップ
※提供元サイトへリンクします
OUTLINE
プロセス技術研究者
前工程プロセス開発
成膜装置
【山梨】プロセス技術開発(wet、Dry、Litho、成膜)※リモート・フレックス有/シェア世界3位
【日本を代表する半導体製造装置メーカー/売上シェア世界TOPクラス/時価総額ランキングTOP10】
■業務内容:【変更の範囲:会社の定める業務】
ウェーハサービスグループに所属しプロセス開発として以下の業務を担って頂きます
<プロセス開発> 主業務(70%)
各種プロセス開発(主にwet、Dry、Litho、成膜)、実験、dataまとめ、報告、sample試作
社外との共同研究開発、報告、学会発表
新規技術探索 及び 大学、研究機関との共同研究
<装置維持管理> 副業務(20%)
装置日常管理、消耗品管理、修繕計画・実行
<外部機関窓口> 副業務(10%)
外部機関を利用したsample開発窓口対応、予算・進捗管理
■ポジションの魅力:
<業務のやりがい>
社内、共同研究先に対し、質の高いsample提供する事で、会社への貢献を実感できます。
単一プロセスだけでなく、様々な工程のプロセス習得することで、より高度な技術を身につけることが可能です。
<本業務を通じて得られるキャリアパス>
新規技術探索において、自由な発想で開発出来る環境があり、特許取得、学会発表などによる自身の技術成果をアピール出来る機会が得られます。
■働き方:
・残業は20‐30h前後。繁閑ありますがフレックスやリモートを活用しながら柔軟に業務計画を立てることが出来る環境です。
・出張はあまりないですが、年1-2回、国内外拠点や学会の際に発生する可能性があります。
■東京エレクトロンについて:
約230兆円の市場規模となる電子機器市場と半導体市場の中で、同社は半導体製造装置市場で国内首位/世界第3位の売上をあげており、産業全体を支える重要な役割を担っています。
・営業利益率は23年3月期で約30%を誇ります(日本製造業の営業利益率は4%程度)
・日本時価総額ランキング9位(2023年)
・2023 All-Japan Executive Team」(ベストIR企業ランキング)に選出。6項目で1位を獲得。
変更の範囲:本文参照
<応募資格/応募条件>
■必須要件:
・半導体プロセスの開発経験がある方
■歓迎要件:
・デバイスインテグレーションまたは半導体計測技術に精通している方
<語学補足>
英語を実際に使う場面:技術情報の入手と実務適用
穂坂事業所
住所:山梨県韮崎市穂坂町三ツ澤650
勤務地最寄駅:JR線/韮崎駅
受動喫煙対策:屋内全面禁煙
<転勤>
当面なし
※変更の範囲:会社の定める場所( テレワークを行う場所を含む)
<在宅勤務・リモートワーク>
相談可
<オンライン面接>
可
700万円~1,100万円
<賃金形態>
月給制
補足事項なし
<賃金内訳>
月額(基本給):310,000円~530,000円
その他固定手当/月:17,000円
<月給>
327,000円~547,000円
<昇給有無>
有
<残業手当>
有
<給与補足>
※経験・能力等を十分考慮の上、同社規定により決定します。
■昇給:年1回
■賞与:年2回
賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。
フレックスタイム制
コアタイム:11:00~16:00
休憩時間:60分
時間外労働有無:有
<標準的な勤務時間帯>
9:00~17:30
COMPANY
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